物理氣相沉積（Physical vapor deposition，PVD）是一種在真空條件下采用物理方法，將固體或液體材料表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能薄膜的技術(shù)。
物理氣相沉積技術(shù)不僅可以沉積金屬膜、合金膜 ，還可以沉積化合物 、陶瓷 、半導(dǎo)體 、聚合物膜等，是具有廣泛應(yīng)用前景的新材料制造技術(shù)。采用此技術(shù)制備的超硬薄膜不僅具有超高硬度，且超薄、耐高溫、無污染、幾乎零排放，適合于工具 、零件和摩擦磨損件表面的耐磨損、抗氧化、防腐蝕、自潤滑等特殊性能要求，是現(xiàn)代表面工程技術(shù)中最有發(fā)展前途和應(yīng)用價(jià)值的一種技術(shù) 。
PVD | 優(yōu)點(diǎn) | 缺點(diǎn) | 應(yīng)用 |
真空蒸鍍 | ● 原理簡單，操作方便，沉積參數(shù)易于控制 | 薄膜與襯底的附著性相對較差，工藝重復(fù)性不太理想 | 真空蒸鍍用于高、低折射率材料的光學(xué)干涉鍍膜、鏡面鍍膜、裝飾鍍膜、軟包裝材料上的滲透阻隔膜、導(dǎo)電膜、防腐蝕涂層等。沉積金屬時(shí)，真空蒸鍍有時(shí)也稱為真空金屬化。 |
濺射沉積 | ● 薄膜與襯底附著性好 | ● 設(shè)備復(fù)雜，沉積參數(shù)控制較難 | 濺射沉積廣泛用于在半導(dǎo)體材料上沉積薄膜金屬化、建筑玻璃上的涂層、聚合物上的反射涂層、存儲介質(zhì)的磁性薄膜、玻璃和柔性網(wǎng)上的透明導(dǎo)電薄膜、干膜潤滑劑、耐磨涂層在工具和裝飾涂層上。 |
離子鍍 | ● 薄膜與襯底附著性好 | ● 有許多加工變量需要控制 | 離子鍍用于在復(fù)雜表面上沉積復(fù)合材料的硬質(zhì)涂層、附著金屬涂層、高密度光學(xué)涂層和保形涂層。使用離子鍍在航空航天部件上沉積鋁膜稱為離子氣相沉積。 |
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